蚀刻设备分为湿法蚀刻和干法蚀刻两种。
1. 湿法蚀刻
该过程使用酸性或碱性化学品来溶解氧化膜。可一次加工大量板材，生产质量稳定。
由于化学溶液相对便宜，因此可以以低成本制造。然而，该方法不允许垂直加工，因为蚀刻方向沿一个方向进行。 1μm左右的加工是极限。
2.干法蚀刻
干法蚀刻是一种不使用化学品的蚀刻工艺。在干法刻蚀方法中，等离子刻蚀应用*为广泛。这是一种在真空下通过高压将气体转变为等离子体的方法。
等离子体产生方法有两种：感应耦合和微波，并且都使用高频电源。该方法利用产生的等离子体来刮削物体的表面，其特点是比湿法蚀刻成本更高。然而，可以加工100nm至1000nm的细槽。
除了等离子蚀刻之外，还有利用离子碰撞的离子蚀刻、利用气体的气体蚀刻等其他方法。两者都需要真空装置。