步进机用于半导体和液晶的制造，特别是用于光刻过程中使用掩模的曝光处理。
步进法包括步进重复法和步进重复法，其中，由于一次可以转移的面积较小，因此在步进时将晶圆顺序曝光；以及步进重复法，其中称为扫描仪的标线和存在一种使用步进机进行曝光的类型，该类型与步进机不同，并且可以将其视为扫描仪。