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产品资料

基板用接近曝光设备
产品型号:MA-6131ML
简介:

G3~G5基板用接近曝光设备MA-6131ML 基板用接近曝光设备装载有边缘传感器和间隙传感器的非接触式近接曝光装置。*适合触摸屏及有机EL等的量产。

基板用接近曝光设备  的详细介绍

G3~G5基板用接近曝光设备MA-6131ML

深圳市京都玉崎电子有限公司
项目担当:陈永康
电话:13717018123

Q  Q:2853007784

网址:www.ktts.cn

基板用接近曝光设备


G3~G5基板用直立型近接曝光装置

通过掩膜与基板的垂直放置,来减少翘曲的直立型近接曝光机。对应水平搬送型前后处理装置的联机。

主要特长

         基板用接近曝光设备
  • 直立配置掩膜台/基板台。不需补正由掩膜/掩膜台/基板台的自身重量而造成的弯曲变形,构造简单,安定性高。
  • 采用新型光学系统,使影响图形转印精度的倾斜角降低至过去的一半以下(与本公司装置相比),可实现更高精度的图形转印。
  • 完全分离本体与光源部。光源的热量传递不到本体,改善了本体部的热量分布水准。
  • 为了防止因掩膜及玻璃基板的温度差造成的伸缩变形,可选择基板台温度控制系统及掩膜冷却系统。(选购项)
  • *大基板尺寸为1,200mm×1,400mm。通过独自的光学系统实现了均匀的一次性曝光。
  • 能够装载存放5张掩膜的掩膜存放库
主要规格基板用接近曝光设备
  MA-6701ML MA-6801ML MA-6131ML
基板尺寸 550 x 650mm 650 x 750mm 1100 x 1300mm
掩膜尺寸 620 x 720 x t8.0mm 700 x 800 x t8.0mm  1200 x 1400 x t4.8mm
对位 非接触预对位~自动对位
间隙 拥有传感性能
光源 超高压水银灯 :8kW 超高压水银灯 :8kW 超高压水银灯 :18kW
外观尺寸及重量 本体尺寸 W3500 x D2720 x H2700 mm W4150 x D3200 x H2900 mm W11300 x D7060 x H3350 mm
本体重量 3500kg 3800kg 12700kg
光源重量 800kg 1150kg 4200kg
选购项 掩膜冷却、基板台温度调节、温控机房、特殊对位照明
用途 触摸屏、彩色滤光片、有机EL、C-STN、电子纸等

基板用接近曝光设备基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽