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产品资料

无掩膜曝光设备
产品型号:MX-1301E
简介:

无掩膜曝光设备MX-1301E 无掩膜曝光设备利用独自的高速描画「Point Off Array方式」技术直接描画图形的装置。 无掩膜曝光机,是通过美国德州仪器公司制造的Digital Micromirror Device(DMD)来形成曝光图形,因此不需要掩膜。 由于不需要制作掩膜,所以可降低成本和缩短曝光前时间。特别适合少量多品种的生产及研究开发等。

无掩膜曝光设备  的详细介绍

无掩膜曝光设备MX-1301E

深圳市京都玉崎电子有限公司
项目担当:陈永康
电话:13717018123

Q  Q:2853007784

网址:www.ktts.cn

无掩膜曝光设备


无掩膜曝光装置

由合资企业INDEX Technologies株式会社开发

利用独自的高速描画「Point Off Array方式」技术直接描画图形的装置。

无掩膜曝光技术
主要特长无掩膜曝光设备
  • 能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。
  • 能够对应以**PCB、高密度Packaging、平板显示(FPD)等为首的MEMS等微细加工领域。
  • 由于在光刻工艺中不需要掩膜,因而可以*大限度地降低开发成本和缩短市场供应时间。
  • 此外,还可以根据客户需求,提供相应的装置构造。
マスクレス露光装置
主要规格无掩膜曝光设备
  MX-1101 MX-1201 MX-1301E MX-1702
*小线幅 (※1) 5μm 5μm 3μm 10μm
数据分辨率 0.5μm 0.5μm 0.25μm 1.0μm
*大基板尺寸 100 x 100mm 200 x 200mm 300 x 300mm 550 x 650mm
有效曝光范围 100 x 100mm 200 x 200mm 300 x 300mm 550 x 650mm
激光主波长 375±5nm 405±5nm
曝光扫描速度 43.9mm/s 22.5mm/s 92.2mm/s
光学引擎装配数量 1 7


无掩膜曝光设备因光刻胶和显影条件而异。