大塚電子では、光干渉法と自社製高精度分光光度計により、非接触・非破壊かつ高速高精度な膜厚測定を可能にしています。光干渉法は、図2のような分光光度計を利用した光学系によって得られた反射率を用いて光学的膜厚を求める方法です。図1のように金属基板上にコーティングされた膜を例にとると、対象サンプル上方から入射した光は膜の表面で反射します(R1)。さらに膜を透過した光が基板(金属)や膜界面で反射します(R2)。このときの光路差による位相のずれによって起こる光干渉現象を測定し、得られた反射スペクトルと屈折率から膜厚を演算する方法を光干渉法と呼びます。解析手法は、ピークバレイ法、周波数解析法、非線形*小二乗法、*適化法の4種類があります。
*1 詳細はお問合せください *2 VLSI社製膜厚スタンダード(100nm SiO2/Si)の膜厚保証書記載の測定保証値範囲に対して *3 VLSI社製膜厚スタンダード(100nm SiO2/Si)の同一ポイント繰り返し測定時における拡張不確かさ(包括係数 2.1)