特点
波长适宜：特别开发了 436nm、405nm 和 365nm 三种紫外线波长，能有效利用这些波长进行光刻等作业，是一种具有长寿命和稳定辐照度的高强度光源。
接近点光源：弧度尺寸非常接近点光源，容易漫射，可产生均匀、平行的光线，能*大限度发挥光学系统性能。
功率范围广：属于超高压汞灯，功率范围在 100W-35kW，产品系列丰富，可根据不同的生产需求选择合适的功率等级。
高照度：能够满足提高现有设备生产效率的需求，使用该高强度灯可显著提升生产效率。
应用领域
半导体制造：用于半导体回路形成，在芯片制造过程中，如光刻环节，可将设计好的电路图案转移到半导体晶圆上，对精度和光源稳定性要求极高，该灯管能满足这些要求，有助于提高芯片制造的良品率和生产效率。
液晶显示（LCD）制造：在液晶回路形成过程中发挥作用，例如用于液晶面板的光刻工艺，将透明导电电极、像素电极等图案化，确保液晶显示器的高质量和高分辨率。
彩色滤光片制造：是彩色滤光片回路形成的重要光源，通过**的光刻工艺，在玻璃基板上形成红、绿、蓝等彩色滤光单元，使显示画面色彩更加丰富、逼真。
有机发光二极管（OLED）制造：可用于 OLED 图案的形成，在 OLED 面板制造中，能够实现精细的电极和发光层图案化，对于提高 OLED 显示的性能和像素密度具有重要意义。
印刷电路板（PCB）制造：用于印刷电路板电路烧录，在 PCB 的制作过程中，通过光刻工艺将电路图案转移到覆铜板上，实现电路的**布线和制作，确保电路板的质量和性能。
微机电系统（MEMS）制造：在 MEMS 器件的制造过程中，如微传感器、微执行器等的制作，可用于光刻工艺，实现微小结构的**制造。