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DNK大日本科研
本公司一直以生产融合了光学・精密机械・电子控制・各软件技术的光机电一体化工程装置及液晶显示屏制造装置为主发展至今。现在,全体员工正为开发面向新一代的高新技术产品而激情高昂。此外,我们还遵循ISO-9001的规定,进行严格的质量管理。


今后,对产品,我们都将以比现在更进一步的「高品质」、「短交货期」和「低成本」为目标,并以制造可灵活满足客户需求的产品而奋进。融合机械和电子的「机电一体化」技术很早已应用于众多装置,本公司在此基础上,着眼于「光」领域与机电一体化的研发,确立了「光机电一体化」技术。我们坚信,此技术今后一定会应用于所有领域,也必将融汇于信息化社会发展的全过程。

本公司光学技术的最大特征:利用大型镜面光学系统形成的平行光大面积照射、利用的独自的光学设计形成的光学系统配置、利用独自的镜面光学系统形成的高照度均一照射、为了实现这些功能特征,我们努力研究和开发了。



产品:
实验·研究用曝光设备
型号:
MA-1400
品牌:
DNK大日本科研
产品:
实验·研究用曝光设备
型号:
MA-1200
品牌:
DNK大日本科研
产品:
胶片用曝光设备
型号:
胶片用
品牌:
DNK大日本科研
产品:
无掩膜曝光设备
型号:
MX-1702
品牌:
DNK大日本科研
产品:
无掩膜曝光设备
型号:
MX-1301E
品牌:
DNK大日本科研
产品:
无掩膜曝光设备
型号:
MX-1201
品牌:
DNK大日本科研
产品:
无掩膜曝光设备
型号:
MX-1101
品牌:
DNK大日本科研
产品:
化合物半导体用曝光设备
型号:
MA-4000
品牌:
DNK大日本科研
产品:
基板用接近曝光设备
型号:
MA-6131ML
品牌:
DNK大日本科研
产品:
基板用接近曝光设备
型号:
MA-6801ML
品牌:
DNK大日本科研
产品:
基板用接近曝光设备
型号:
MA-6701ML
品牌:
DNK大日本科研
产品:
基板用接近曝光设备
型号:
MA-5701ML
品牌:
DNK大日本科研
产品:
基板用接近曝光设备
型号:
MA-5501ML
品牌:
DNK大日本科研